快速退火炉采用卤素红外线灯作为热源，通过较快的升温速度将晶圆或材料快速加热至300°C-1200°C，从而消除晶圆或材料的部分缺陷，提高产品性能。

  快速退火炉采用先进的微电脑控制系统和PID闭环控温，可达到较高的控温精度和温度均匀性，并可根据用户工艺要求配备真空室或多路气体。

  快速退火炉主要由真空室、加热室、进气系统、真空系统、温控系统、风冷系统、水冷系统等组成。

  真空室：真空室是快速退火炉的工作空间，晶片在此进行快速热处理。

  加热室：加热室采用多颗红外灯作为加热元件，以耐高温合金为框架，以高纯石英为主体。

  进气系统：真空室末端有进气孔，采用精确控制的进气口，以满足某些特殊工艺的用气要求。

  真空系统：真空泵与真空腔之间装有高真空电磁阀，可有效保证腔体的真空度，同时防止气体回流污染腔体内已加工的工件。

  温控系统：温控系统由温度传感器、温度控制器、电源调节器、可编程控制器、PC机及各种传感器组成。

  风冷系统：真空室的冷却是通过进风系统向腔内充入惰性气体，以加速热处理工件的冷却，达到工艺要求。

  水冷系统：水冷系统主要包括真空室、加热室、各部件密封圈的冷却水。